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[ Placcatura ionica ]
Metodo basato sul plasma per il trattamento di superfici metalliche. Durante la placcatura ionica la superficie-substrato viene innanzitutto pulita per mezzo di bombardamento ionico in plasma. Successivamente, il vapore metallico viene condotto da una sorgente-evaporatore, che viene in parte ionizzata in plasma e accelerato sulla superficie del substrato preriscaldato, attraverso una polarizzazione negativa. In questo modo sul substrato si forma uno strato del metallo vaporizzato, mentre di nuovo una parte del substrato o dello strato viene rimossa con un bombardamento ionico. La struttura dello strato derivante dipende fortemente dalla temperatura del substrato.
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